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高纯度・高性能清洗剂

CA-HP 系列 

Semiconductors
  • 高精纯柠檬酸溶液
  • 适用于硅晶圆的制造及回收再造的洗涤制程。
产品名称 特性 应用实例
CA-HP 10 10%高纯度柠檬酸溶液 作为各种清洗剂的原料
作为去除金属离子杂质的清洗剂(晶圆制造制程、回收再造制程)
CA-HP 30 30%高纯度柠檬酸溶液

包装

  • 每箱两瓶(一瓶10升)。

法规信息

中国化审法

CLEAN 系列  

SemiconductorsLED
  • 可于进行Cu-CMP制程时将微粒子与金属离子杂质同时去除。
  • 几乎不会侵蚀晶圆表面的任何材料
  • 安全且对环境友善的液体化学试剂。
产品名称 特性 应用实例
CLEAN-100 高纯度・高性能柠檬酸水溶液
一次同时去除金属离子杂质及微粒子的清洗剂。
CMP后清洗剂
Cu-CMP后清洗剂
Cu/low-k后清洗剂

包装

  • CLEAN-100 :
    ·200升桶装
    ·10L × 2瓶

法规信息

CLEAN-100

中国化审法

WCP 系列 

  • 中性清洗剂。
    在不造成侵蚀W面而引起表面污染的情况下去除微粒子
产品名称 特性 应用实例
WCP-200 高纯度・高性能天然胺水溶液。 W-CMP后清洗剂

包装

  • 可商讨

法规信息

中国化审法  

用途

如需更多信息,请联系我们。在此等候关于商品的咨询。

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