高纯度・高性能清洗剂

CA-HP 系列 

Semiconductors
  • 高精纯柠檬酸溶液
  • 适用于硅晶圆的制造及回收再造的洗涤制程。
产品名称 特性 应用实例
CA-HP 10 10%高纯度柠檬酸溶液 作为各种清洗剂的原料
作为去除金属离子杂质的清洗剂(晶圆制造制程、回收再造制程)
CA-HP 30 30%高纯度柠檬酸溶液

包装

  • 每箱两瓶(一瓶10升)。

法规信息

中国化审法

CIREX 系列 

Semiconductors
  • 此产品先利用有机酸将吸附在晶圆上的金属离子杂质电离去除后再用螯合剂稳定后并免杂质再度吸附。
製品名 特徴 適用例
CIREX 高纯度・高性能柠檬酸
水溶液
优异的金属离子杂质去除能力
電子工業用清洗剂
Al-CMP后清洗剂
W-CMP后清洗剂

包装

  • 可商讨

法规信息

中国化审法

CLEAN 系列  

SemiconductorsLED
  • 可于进行Cu-CMP制程时将微粒子与金属离子杂质同时去除。
  • 几乎不会侵蚀晶圆表面的任何材料
  • 安全且对环境友善的液体化学试剂。
产品名称 特性 应用实例
CLEAN-100 高纯度・高性能柠檬酸水溶液
一次同时去除金属离子杂质及微粒子的清洗剂。
CMP后清洗剂
Cu-CMP后清洗剂
Cu/low-k后清洗剂

CLEAN-8000 系列

高性能清洗剂
抑制铜线被侵蚀情况并清除污点

包装

  • CLEAN-100 :
    ·200升桶装
    ·10L × 2瓶
  • CREAN-8000 系列:可商讨

法规信息

CLEAN-100

中国化审法

CLEAN-8000 系列

中国化审法

WCP 系列 

  • 中性清洗剂。
    在不造成侵蚀W面而引起表面污染的情况下去除微粒子
产品名称 特性 应用实例
WCP 系列 高纯度・高性能天然胺水溶液。 W-CMP后清洗剂

包装

  • 可商讨

法规信息

中国化审法  

用途

如需更多信息,请联系我们。在此等候关于商品的咨询。

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