高性能蚀刻液

化学特性

SemiconductorsLCDLED
  • 各种具有优异选択性的蚀刻液。
产品名称 目标薄膜 Selectivity (Relative Value)
CuE-3000M

铜/银/镍/锡/铝/铅/钛

= 1/0.052/<0.001/<0.001/<0.001/1.1/<0.001

TCL-2 series
钛,钨钛
锑/铅/铜=1/11.93/0.11(40℃)

用途

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